Китайский технологический стартап Yuanjiwei заявил о планах наладить выпуск микросхем по нормам, эквивалентным 5 нм, — без использования недоступных из-за экспортных ограничений США EUV-литографов. Ставка сделана на 2D-полупроводниковые материалы вместо кремния.
Сейчас компания реализует пилотный проект: запущена экспериментальная линия по обработке 200-миллиметровых (8-дюймовых) пластин. К концу 2026 года планируется освоить техпроцесс 90 нм, в 2027-м — 28 нм, а к 2029 году — заветные 5 нм. У Yuanjiwei уже готов собственный набор инструментов проектирования (PDK) версии 0.1 под нормы 500 нм.
Путь выглядит долгим, но сама попытка обойти западные ограничения на производство передовых чипов принципиально иным путём — знаковая для китайской полупроводниковой отрасли.
